Plasma-Atomic-Layer-Deposition Anlage für hochreine Metall Schichten insbesondere Titannitrid-Schichten (
- Committente
- Technische Universität Wien
- Pubblicato
- 2026-09-28
- Scadenza
- Non indicato
- Fonti
- TED
- Valore
- Non indicato
Descrizione
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Plasma-Atomic-Layer-Deposition Anlage für hochreine Metall Schichten insbesondere Titannitrid-Schichten
CPV: 31640000
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