Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
- Auftraggeber
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Veröffentlicht
- 2026-10-01
- Frist
- 2026-11-10T22:58:00+00:00
- Quellen
- TED
- Wert
- Nicht angegeben
Beschreibung
Die Beschreibung ist in der Sprache der Quelle.
The B & R Nanotechnology Center (BRNC) at ETH Zurich invites tenders for the purchase of one (1) ultra-high resolution electron-beam lithography (EBL) system. The system will be used for a variety of research activities of internal and external users, ranging from the generation of high-precision structures at the nanometer level to the rapid exposure of complex structures over large areas. The scope includes delivery, installation, training and acceptance of the system.
CPV: 38000000
Mitgliedschaft
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